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高精度光学抛光
纯度高,埃级的加工精度;
平均粒径范围窄,均匀度高;
独特的分散体系,持久悬浮;
不会出现吸附现象,易清洗;
具有稀土独有的抛光特性。

粒径的分级梯度小
可满足各种应用
可制备各种性质和功能的光学材料;
可用于各种金相、CMP抛光设备;
兼容各种抛光布、抛光垫、抛光盘。
可获得一致的、可重复的抛光结果。

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