为什么说抛光是重要的？

   抛光可以去除研磨过程中产生的损伤，并为试样进行光学、显微硬度或SEM/EBSD分析做好准备。高质量的抛光可使试样表面通过机械和/或化学机械研磨变得光滑如镜面一般，同时保留真实的微观结构和平整度。

   许多因素会影响到表面光洁度，例如：

   •磨料类型和粒度
   •抛光布质地
   •抛光时间
   •试样载荷
   •磨盘旋转方向
   •磨盘转速

   抛光过程

   抛光包括两个或多个主要步骤，使用的磨料逐渐变得越来越细。研磨之后进行粗抛光（简称：粗抛），可去除研磨过程中产生的大部分变形。很多时候需要进行中间抛光阶段（简称：中抛）来进一步减少表面变形并留下较小的划痕。最后，精细抛光可去除所有的变形，使表面光洁度更加完美。

   抛光不良会导致划痕过多或偏重、拖尾、浮雕、污染、边缘倒圆和嵌入。这些问题会妨碍观察材料的真实结构并损坏材料，从而导致结果不准确。

   最终抛光悬浮液

   最终抛光悬浮液旨在去除肉眼通常看不到的最后一层表面变形层。在使用高放大倍率、偏振光、干涉对比以及使用EBSD技术进行评估时，去除这种变形至关重要。

   在最终抛光阶段，二氧化硅抛光液将登场，尤其是氧化铝抛光液将大显身手，几乎占据了终抛应用的九成。市面上生产氧化铝抛光液的制造商不计其数，但能够利用氧化铝抛光液轻松打造无瑕表面的却凤毛麟角。美国QMAXIS（可脉）是目前在北美地区为数不多的拥有这项技术的一家制造商。

   不同类型的最终抛光悬浮液采用不同的材料去除机制

   1、美国QMAXIS的AluminaPrep I含有溶胶-凝胶的氧化铝，通过纯机械研磨工艺提供出色的材料去除率和表面光洁度。

   2、美国QMAXIS的SilicaPrep I含有胶体二氧化硅，具有柔软的反应层，可对试样表面进行化学腐蚀。胶体二氧化硅的球形使其能够去除表层而不会产生划痕。

   不同的材料，应用和要求可能不尽相同，需要有专门的制备方法。材料类型将决定哪种最终抛光悬浮液更适合应用。因此，抛光介质的正确选择极为关键，美国QMAXIS（可脉）的AluminaPrep I和SilicaPrep I适用于不同的分析。

   您在最终抛光阶段使用哪些抛光液，欢迎与我们分享您宝贵的经验！